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    石墨烯薄膜制備設備

    更新時間:  2018-09-10

    產品型號:  

    產品報價:  

    所  在  地:  合肥市新站區穎河路22號

    產品特點:  設備描述該石墨烯制備設備雙溫區滑軌式CVD系統系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。CVD(化學氣象沉積系統)常用于表面材料生長、沉積,是一款實驗室常用設備

    (聯系我時,請說明是在化工儀器網上看到的信息,謝謝!)
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    產品概述

    石墨烯薄膜制備設備技術參數

     

     

     

     

     

     

     

     

     

    雙溫區滑軌爐LFT1200C-II 200D50

    爐體結構

    石墨烯制備設備雙溫區滑軌式CVD系統采用雙層殼體并帶有風冷系統,使其爐體表面溫度都小于55℃

    爐底安裝一對滑軌,可手動滑動,以便滿足特殊工藝的快速升降溫的要求。

    爐管尺寸

    Φ50/60/80/100×1600mm(可提供特殊定制。)

    功率

    5kW

    輸入電壓

    220VAC 單相 50/60Hz

    加熱元件

    Cr27Al7MO2(摻鉬鐵鉻鋁合金)

    溫度

    溫度:1200℃ 

    額定溫度:1100℃

    升溫速率

     ≦10℃/min(推薦)

    加熱區長度度

    兩個加熱區的長度都是200mm

    分別由獨立的溫控系統控制

    恒溫區長

    · 100+100mm(±1℃)

    ·可獲得較長恒溫區間

    控溫精度

    ·          ±1℃

    快速連接法蘭

    ·         Φ50快結式不銹鋼真空法蘭

    ·         打開法蘭直接卸下卡箍即可,取放樣品方便
    另配備有可調節高度的法蘭支架

     

     

    預熱爐

    功率

    ·         1kw

    加熱區

    ·         100mm

    溫度

    ·         1200℃

    工作溫度

    ·         200-800℃(可根據實際工藝需求調整)

     

     

    五路質子流量控制系統

    MFC-5Z

    電壓

    220VAC  單相  50/60Hz

    針閥材質

    316不銹鋼

    量程

    50sccm、100sccm、500sccm、500sccm、500sccm(可根據工藝要求提供多種量程選擇)

    工作溫度

    5~45℃

    外型尺寸

    600(L) x 600(W) x 700(H) mm

    電壓

    AC220V/50Hz單相

    功率

    23W

     

     

    真空系統

    LVU-10

    殼體尺寸

    ·         600 (L) x 600 (W) x 700(H)mm

    最大承載量

    ·         1000 Lbs 

    抽氣速率

    ·         10m³/h

    ·         極限真空度:10-1Pa

    ·         雙層立式油污過濾器(PE材質)與真空泵連接

    質保期

    一年質保期,(相關耗材除外,如爐管,密封圈加熱元件等易耗件)

     

     

     

     

    使用注意事項

    · 石墨烯制備設備雙溫區滑軌式CVD系統爐管內氣壓不可高于0.02MPa

    ·       

    · 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊

    · 石英管的長時間使用溫度<1100℃

    · 對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等)


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